
Jednostki naukowe: Uniwersytet Mikołaja Kopernika w Toruniu
Numer zgłoszenia / patentu: P.426646
Nowa metoda wytwarzania grafenu 3D. Większość znanych zastosowań grafenu zależy od jego pola powierzchni jak np. w adsorbentach, katalizatorach i nośnikach fazy katalitycznej, materiałach elektrodowych w elektrochemicznych źródłach prądu.
Zatem, istnieje ewidentna potrzeba opracowania względnie nieskomplikowanej, i niedrogiej metody eksfoliacji prowadzącej do efektywnej separacji sklejonych płatków grafenowych. Istota uzyskanego rozwiązania problemu tj. tworzenia trwałych trójwymiarowych porowatych matryc zbudowanych z grafenu obejmuje dwa połączone ze sobą procesy:
- Eksfoliacja taniego surowca wyjściowego tj. komercyjnego grafitu do nisko zaglomerowanych płatków grafenowych i zorientowanych wielokierunkowo,
- Wiązanie eksfoliowanych płatków grafenowych SLG i FLG w trwałą porowatą i trójwymiarową strukturę z wykorzystaniem separatora nieorganicznego oraz lepiszcza (skarbonizowany polimer).
Opracowana nowa technologia 3D strukturyzacji grafenu bez wstępnego utleniania ma charakter nowości naukowej i technologicznej. Opatentowanie tej metody w skali międzynarodowej pozwoli firmie stosującej to rozwiązanie patentowe na uzyskanie przewagi rynkowej. Struktury na bazie in situ eksfoliowanych płatków grafenowych są materiałami mezoporowatymi a średnica porów zawiera się w granicach od 2 do 40 nm.
Kontakt z Brokerem Technologii
Interdyscyplinarne Centrum Nowoczesnych Technologii, Uniwersytet Mikołaja Kopernika w Toruniu
Michał Podczarski
tel. + 48 787 606 511
e-mail: mpodczarski@umk.pl